外媒：EUV光刻机时代开始“翻篇”了
芯片生产制造过程中必不可少的一个流程就是光刻，因此光刻机也成为了重要的芯片制造设备。尤其是EUV光刻机，制程工艺在5nm以下的芯片要实现量产必须借助这个设备。
但随着时间的推移，芯片的生产制造出现了更多的可能，不少国际知名大厂商都在探索全新的工艺。这番火热的趋势下，就连美国媒体也禁不住惊呼：EUV光刻机时代开始“翻篇”了！到底有哪些全新的替代工艺已经在研发之中了？
一、 光刻机为什么重要
回答这个问题之前我们首先来看一下光刻机到底是个什么东西，所谓的光刻机用光来制作一个图形，在硅片上匀胶，然后把掩膜版上的图案转移到光刻胶上，光刻决定了芯片的关键尺寸，占芯片整体生产成本的35%。
目前业界主流的光刻机产品是EUV光刻机和DUV光刻机，厂商包括佳能、尼康、阿斯麦尔等。但EUV光刻机产品只有阿斯麦尔（ASML）一家公司能够提供，把控着这项产品，ASML扼住了全球半导体行业的咽喉。
但ASML提供的光刻机产品中只有10%的自主技术，剩下的90%来自其它国家。而且一台EUV光刻机拥有超过10万个零部件，需要全球主要工业国家进行提供。并且受制于《瓦森纳协定》，ASML至今没有向中国出口一台EUV光刻机。
EUV光刻机对于尖端芯片制程工艺目前仍然具有不可替代的关键作用，但根据外媒的报道，EUV光刻机时代已经开始“翻篇”了，这到底是怎么回事呢？
二、 新的可能
正如前文所言，制程工艺在5nm以下的芯片必须用EUV光刻机进行生产，但更多的国际半导体巨头却已经开始在探索新的可能性。首先是从封装技术上下文章，苹果公司通过将两颗M1Max芯片封装在一起，使其性能超越了新一代M2芯片产品。
台积电、三星、SK海力士已经组建了“3D Fbric”联盟，计划推出全新一代封装计算平台。除此之外，光刻机巨头佳能目前正在研发全新一代纳米压印微影技术，这项技术可以实现5nm芯片的量产，与传统光刻工艺相比，成本将下降40%，预计2025年可以正式投入生产，对于ASML来说，这才是最大的威胁。
中国方面主要的突破口放在“粒芯技术”上，这本质上也是一种更为先进的芯片封装工艺，通过把不同成熟工艺芯片进行封装，使其性能可以达到先进芯片的程度。目前我国的通富微电在这项技术上已经取得了极大的成就，突破了5nm性能芯片。
并且有别于传统硅基芯片技术的另一种发展可能“光子芯片”在中国也迎来了大发展，根据《北京日报》日前报道称，我国首条光子芯片生产线已经进入到了筹备阶段，预计2023年就可以正式投入生产。如果光子芯片真的能够在中国迎来发展高潮，我国将可以彻底摆脱缺少EUV光刻机的现实。
既然芯片产业链已经拥有EUV光刻机支持，为什么众多巨头还要探索新的可能呢？
三、 摩尔定律失效
摩尔定律是美国半导体巨头英特尔的创始人之一戈登·摩尔提出来的一项定律，指出人类社会每过18个月集成电路上的集成度会翻一番。多年的半导体行业发展实践下来，这一定律得到了证明。
但如今摩尔定律已经快要失效了，因为集成电路发展到目前已经遭遇到了物理极限。第一个英特尔处理器只有2300个晶体管，但如今一个处理器上的晶体管数量要以亿来计算。nm级别的制程工艺或许是我们在电子芯片上可以触摸到的顶点。
因此众多科技巨头都在研究新的发展方向，就目前的情况来看，以通富微电为代表的“粒芯工艺”越来越火热，全球主流的半导体大厂基本上都开始建立起自己的粒芯生态系统。未来这项技术还将进一步发展，对于EUV光刻机被“卡脖子”的中国来说，发展“粒芯技术”具有重要的战略意义。
总结
属于EUV光刻机的时代似乎已经开始“翻篇”，众多国家和国际半导体巨头开始探索新的发展可能。未来的ASML如果不能继续提升光刻机性能的话，将很有可能被市场所淘汰。对于我们来说，这样的发展势头是一个好的现象。
对此，你们有什么看法呢？欢迎在评论区留言讨论。
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